Новости

Запатентован универсальный лазерный способ образования наноструктуры.

Дата публикации: 08/09/2008
Категория: Новости лазерных технологий
Версия для печати

Наноструктуру образуют с помощью лазера (патент США 6995336), генерирующего излучение с ультракороткими импульсами. Размеры наноструктуры можно уменьшить ниже длины волны лазерного излучения.
Способ обеспечивает получение наноструктуры, имеющей размеры менее 20 нм с высокой повторяемостью.

Источник: «Автоматическая сварка», 2008, № 4, с.57, www.nas.gov.ua/pwj

Статьи по теме:

страницы: 1