Проведено моделирование формирования структуры тонкопленочных покрытий при физическом осаждении атомов.

Дата публикации: 12/12/2010
Категория: Новости лазерных технологий
Версия для печати

Разработана трехмерная компьютерная модель, основанная на кинетическом методе Монте-Карло и описывающая формирование структуры тонкопленочных покрытий при импульсном лазерном осаждении.
Для определения основных параметров падающего потока атомов использовались результаты математического моделирования динамики разлета многокомпонентного лазерного факела в заданных условиях (в том числе в буферном газе с применением противокапельного экрана) методом прямого статистического моделирования Монте-Карло.
Установлено, что при импульсном лазерном осаждении в буферном газе реализуются условия для формирования пористой структуры и развитого рельефа покрытий. Расчеты подтвердили существенное влияние бомбардировки высокоскоростными атомами и ионами на структурообразование тонко-пленочных покрытий.
Сравнительный анализ результатов компьютерного моделирования и экспериментальных данных по структуре покрытий МоSех показывает, что разработанная модель достаточно адекватно описывает рост покрытия и учитывает условия падения атомов на поверхность.

Источник: «Физика и химия обработки материалов», 2010, №2, с.46-52.

Статьи по теме: